Что такое findslide.org?

FindSlide.org - это сайт презентаций, докладов, шаблонов в формате PowerPoint.


Для правообладателей

Обратная связь

Email: Нажмите что бы посмотреть 

Яндекс.Метрика

Презентация на тему Получение объемных наноматериалов

Содержание

Основные методы получения объемных материалов
Получение объемных наноматериалов Основные методы получения объемных материалов I. Облучение потоками высокоэнергетических частиц Радиационно-пучковые технологии. Ионно-лучевые, ионно-плазменные технологии и воздействие Радиационное воздействие м.б. использовано для модифицирования и создания новых материалов.Радиационная обработка включает Механизм воздействияAИонный пучокОхлаждение за счет теплопроводностиПробегионовМодифицированиеплазмаДефектообразование Воздействие пучковМеталлическаямишеньМеталлические ионыТвердые растворыНАНОРАЗМЕРНЫЕ ФАЗЫ Интерметаллиды, оксиды, карбидыМишеньМодифицированныйслой Радиационно-пучковые технологии используют тепловую, кинетическую, электрическую и магнитную составляющую энергии и различные При модифицировании происходят различные структурные и фазовые изменения.Наиболее значимыми изменениями являются:Увеличение параметра Виды радиационных технологийПо носителям энергии и с учетом основного модифицирующего фактора1 Ионно-пучковые Виды облученияИонные пучкиУскоренные ионы (и атомы) в виде моноэнергетических или полиэнергетических пучков Низкотемпературная плазмаНизкотемпературная плазма (Т~ 104 К) может быть равновесной (Те ≈Тi ≈Ta) Ионно-плазменные технологииОдновременная или последовательная обработка поверхности ионами и плазмой. Использование ионно-плазменных технологий Концентрированные потоки энергии (КПЭ)	Высокие потоки энергии (десятки и более Дж/см2) можно создавать
Слайды презентации

Слайд 2 Основные методы получения объемных материалов

Основные методы получения объемных материалов

Слайд 3 I. Облучение потоками высокоэнергетических частиц
Радиационно-пучковые технологии. Ионно-лучевые,

I. Облучение потоками высокоэнергетических частиц Радиационно-пучковые технологии. Ионно-лучевые, ионно-плазменные технологии и

ионно-плазменные технологии и воздействие концентрац. потоков энергии для модификации

материалов.
Физико-химические процессы при взаимодействии ионов с твердым телом. Методы получения и транспортировки пучков заряженных частиц.
Имплантация ионов в металлы и полупроводники
Электронные пучки и их применение
Мощные ионные пучки и их применение
Потоки высокотемпературной импульсной плазмы и их применение
Лазерное излучение и его применение
II.Пленочные технологии.
CVD – химическое осаждение
PVD – физическое осаждение
Электроосаждение



Слайд 4 Радиационное воздействие м.б. использовано для модифицирования и создания

Радиационное воздействие м.б. использовано для модифицирования и создания новых материалов.Радиационная обработка

новых материалов.
Радиационная обработка включает следующие задачи:
Техника для обработки: создающая

потоки ионов, атомов, электронов, плазмы и т.д.
Методы обработки: имплантация, распыление, осаждение, перемешивание, нагрев, деформирование, насыщение и др.
Регулируемые параметры при обработке: токи, потоки, флюенсы, энергия и вид излучения, масса частиц, температура облучения.
Технологические задачи: изменение топографии поверхности, активация поверхности, изменение структуры или химического состава, нанесение или удаление слоя, залечивание дефектов
Результат обработки, изменение шероховатости, глубина слоя, структура, состав и фазовое состояние слоев.
Эксплуатационные свойства созданные обработкой: износостойкость, коррозионная стойкость, прочность, твердость, термостойкость и др.


Слайд 5 Механизм воздействия

A
Ионный пучок



Охлаждение за счет теплопроводности

Пробег
ионов


Модифицирование
плазма
Дефектообразование



Механизм воздействияAИонный пучокОхлаждение за счет теплопроводностиПробегионовМодифицированиеплазмаДефектообразование

Слайд 6 Воздействие пучков
Металлическая
мишень





Металлические ионы









Твердые растворы
НАНОРАЗМЕРНЫЕ ФАЗЫ
Интерметаллиды, оксиды, карбиды
Мишень


Модифицированный
слой

Воздействие пучковМеталлическаямишеньМеталлические ионыТвердые растворыНАНОРАЗМЕРНЫЕ ФАЗЫ Интерметаллиды, оксиды, карбидыМишеньМодифицированныйслой

Слайд 7 Радиационно-пучковые технологии используют тепловую, кинетическую, электрическую и магнитную

Радиационно-пучковые технологии используют тепловую, кинетическую, электрическую и магнитную составляющую энергии и

составляющую энергии и различные способы подвода к мишени: непрерывный,

импульсный, импульсно-периодический, точечный, линейный, поверхностный, квазиобъемный.

Модификация осуществляется за счет физических процессов:
Быстрый нагрев и охлаждение
Имплантация атомов/ионов в материал
Распыление или испарение поверхностного слоя
Плазмообразование на поверхности
Дефектоообразование в слое материала
Осаждение атомов на поверхность
Ионное перемешивание в поверхностном слое
Термическая и радиационно-стимулированная диффузия
Термические и структурные напряжения

Слайд 8 При модифицировании происходят различные структурные и фазовые изменения.
Наиболее

При модифицировании происходят различные структурные и фазовые изменения.Наиболее значимыми изменениями являются:Увеличение

значимыми изменениями являются:
Увеличение параметра решетки
Разворот плоскостей упаковки атомов
Образование аморфных

и ультрадисперсных фаз
Диспергирование микроструткуры
Накопление радиационных дефектов
Загрязнение примесями
Растворение и образование радиационно-стимулированных фаз
Расслоение твердых растворов
Создание пересыщенных твердых растворов
Радиационно-индуцированная сегрегация
Образование слоистых структур
Формирование дислокационных субструткур
Образование градиентных структурно-фазовых состояний



Слайд 9 Виды радиационных технологий
По носителям энергии и с учетом

Виды радиационных технологийПо носителям энергии и с учетом основного модифицирующего фактора1

основного модифицирующего фактора
1 Ионно-пучковые технологии
моноэнергетические пучки ионов
полиэнергетические пучки ионов
2

Ионно-плазменные технологии
3 Плазменные технологии
равновесная плазма
неравновесная плазма
4 Технологии, основанные на использовании концентрированных потоков энергии




Слайд 10 Виды облучения
Ионные пучки
Ускоренные ионы (и атомы) в виде

Виды облученияИонные пучкиУскоренные ионы (и атомы) в виде моноэнергетических или полиэнергетических

моноэнергетических или полиэнергетических пучков являются рабочим телом ионно-пучковых и

ионно- плазменных технологий
Используют ионы газовые или твердотельные (металлические)
Параметрами являются: энергия, поток, флюенс
Ионно-пучковые технологии направлены на
1) получение новых материалов: нанесение пленок путем распыления, бомбардировка подложки в процессе нанесения, имплантация в объем материала для создания нового, ионно-пучковая эпитаксия
2) модифицирование материалов (поверхностного слоя): формирование рельефа путем распыления, изменение структуры путем имплантации, изменение элементного и фазового состава.





Слайд 11 Низкотемпературная плазма
Низкотемпературная плазма (Т~ 104 К) может быть

Низкотемпературная плазмаНизкотемпературная плазма (Т~ 104 К) может быть равновесной (Те ≈Тi

равновесной (Те ≈Тi ≈Ta) или неравновесной (Те ≈Тi

где Те , Тi , Ta температуры атомов, ионов и электронов соответственно.
Перенос вещества в плазме осуществляется путем диффузии, направленных потоков атомов под действием градиентов температуры. Рабочим телом плазмы является (Ar, He, H2, O2, N2) и воздух.
Направления:
1)Получение/синтез материалов: химический синтез (в том числе органический) веществ, полимеризация мономеров; экстрактивная металлургия, включая восстановление оксидов (или их диссоциацию) металлов в плазме и других газовых смесей; получение ультрадисперсных порошков; плазменная плавка металлов
2) Модификация материалов: формирование заданного рельефа (травление или очистка); нанесение покрытий на изделия; синтез химических соединений на поверхности; плазмохимическое насыщение поверхностного слоя азотом, углерода.


Слайд 12 Ионно-плазменные технологии
Одновременная или последовательная обработка поверхности ионами и

Ионно-плазменные технологииОдновременная или последовательная обработка поверхности ионами и плазмой. Использование ионно-плазменных

плазмой.
Использование ионно-плазменных технологий расширяет возможности обработки по сравнению

с ионно-пучковыми технологиями так как позволяет чередовать операции распыления, нанесения покрытий и имплантацию ионов.
Эффективна для получения функциональных покрытий и пленок. Осуществляется ряд операция необходимых для получения прочного сцепления с поверхностью, путем комбинации очистки, напыления ионного перемешивания.



  • Имя файла: poluchenie-obemnyh-nanomaterialov.pptx
  • Количество просмотров: 197
  • Количество скачиваний: 2