Слайд 3
Строение вакуумно-дуговой печи в разрезе Вакуумно-дуговой процесс испарения начинается
с зажигания вакуумной дуги (характеризующейся высоким током и низким
напряжением), которая формирует на поверхности катода (мишени) одну или несколько точечных (размерами от единиц микрон до десятков микрон) эмиссионных зон (так называемые «катодные пятна»), в которых концентрируется вся мощность разряда.
Слайд 4
Катод-мишень испытывает активную бомбардировку ионами, вырываемыми с её
поверхности, то в общем случае плазменный поток из катодно-дугового
источника содержит не только отдельные атомы или молекулы, но и достаточно крупные их кластеры (так называемые макрочастицы), которые в некоторых случаях без какой-либо фильтрации мешают его эффективному использованию.
Слайд 5
Катодно-дуговое осаждение активно используется для синтеза на поверхности
режущего инструмента очень твёрдых износостойких и защитных покрытий, значительно
продлевающих срок его службы.
Слайд 6
Виды защитных покрытий на основе цинка и технологические